Inceptum nostrum ad fideliter operandum intendit, omnibus nostris fortunis inserviens, et in novis technologiarum novisque machinationibus saepe operando pro 2019 Gentis Quality Etching Gas 99,999% Puritas CF4 Tetrafluoromethane CF4 Gas, Tecum omnibus ex animo gratanter omnibus per orbem terrarum invisere videntur fabricam nostram. facilitatem et conciliandi nobiscum cooperationem habebitis!
Inceptum nostrum ad fideliter operandum intendit, nostris omnibus fortunis inserviens, et in novis technologiam et in nova machina frequenter operaturSina CF4 Gas et Carbon Tetrafluoride Gas, satisfactio emptoris semper inquisitio nostra est, valorem pro clientibus creando semper officium nostrum est, longum tempus mutuae utilitatis negotii relatio est quam nos facimus. Certus es particeps in casu tuo in Sinis. Utique alia officia, ut consulentes, offerri possunt etiam.
Specification | 99.999% |
Oxygeni+Argon | ≤1ppm |
Nitrogen | ≤4 ppm |
Humor(H2O) | ≤3 ppm |
HF | ≤0.1 ppm |
CO | ≤0.1 ppm |
CO2 | ≤1 ppm |
SF6 | ≤1 ppm |
Halocarbynes | ≤1 ppm |
Totalis immunditias | ≤10 ppm |
Carbon tetrafluoride hydrocarbon cum formula chemica cf4. Respici potest ut hydrocarbon halogenatum, methanum halogenatum, perfluorocarbon, vel sicut compositum inorganicum. Carbon tetrafluoride est gas sine colore et inodoro, in aqua solubilis, in benzene et chloroformi solubilis. Stabilis sub temperatura et pressione normali, ne fortes oxidantes, materiae combustibiles vel flammabiles. Gas non-combustible, pressio interna continentis augebit cum magno calore exposita, periculum est creptionis et explosionis. Est chemica stabilis et non flammabilis. Solum liquidum ammonia-sodium metallicum in locus temperatus operari potest. Carbon tetrafluoride est gas quod effectus CONSERVATORIUM facit. Valde stabilis est, diu manere potest in aere, et est validissima CONSERVATORIUM gas. Carbon tetrafluoride adhibetur in processu plasmatis etingificationis variarum circuiturum integralium. Usurpatur etiam pro laser gas, et in frigidis temperaturas refrigerantibus, menstrua, lubricantibus, insulis, et refrigerantibus pro detectoribus ultrarubrum adhibetur. Maxime usus est plasma etching gas in microelectronics industriae. Est mixtura gasi tetrafluoromethane puritatis summus et tetrafluoromethane gas puritatis summus et summus oxygenii puritatis. Late adhiberi potest in siliconibus, dioxide pii, nitride pii, et vitro phosphosilicate. Cessura materiae tenuium cinematographicarum qualium tungsten et tungsten etiam late adhibetur in superficie purgandarum electronicarum machinarum, productio cellularum solaris, technologia laser, frigiditatis temperatura refrigerationis, inspectionis fatiscentis, et in productione circumitione impressa purgat. Usus est humilis temperatus refrigerans et plasma arida et technologiae technologiae pro circuitibus integratis. Cautiones pro repositione: Copia in loco frigido, ventilato gas cellarium non combustibile. Ab igne et aestu fontes abstinete. Temperatura repono non excederet 30°C. Seorsim a combustibilibus et oxidantibus facile condi debet, ac permixta repositione vitare. Tabularium instrui debet cum ultrices subitis curationis instrumentis.
Refrigerant:
Tetrafluoromethane interdum adhibetur ut refrigerans temperatus humilis.
Etching:
Adhibetur in sola microfabricatione electronicis vel in compositione cum oxygenio sicut plasma etcantis siliconis, dioxidis pii, et nitridis siliconis.
Productum | Carbon Tetrafluoride CF4 | ||
sarcina Location | 40Ltr Cylindri | 50Ltr Cylindri | |
Implens Net pondus / Cyl | 30Kgs | 38Kgs | |
QTY Loaded in 20'Container | 250 Cyls | 250 Cyls | |
Totalis Net Pondus | 7.5 Tons | 9.5 Tons | |
Cylindrus Tare pondus | 50Kgs | 55Kgs | |
Valvae | CGA 580 |
Summa pudicitia, facilitas tardus;
②ISO libellum opificem;
Fast partus;
④ In-linea analysis ratio qualitatis in omni gradu moderandi;
⑤ Excelsa postulatio et processus anxius ad tractandum cylindrum ante impletionem;Inceptum nostrum ad fideliter operandum intendit, omnibus nostris fortunis inserviens, et in novis technologiarum novisque machinationibus saepe operando pro 2019 Gentis Quality Etching Gas 99,999% Puritas CF4 Tetrafluoromethane CF4 Gas, Tecum omnibus ex animo gratanter omnibus per orbem terrarum invisere videntur fabricam nostram. facilitatem et conciliandi nobiscum cooperationem habebitis!
MMXIX BonitasSina CF4 Gas et Carbon Tetrafluoride Gas, satisfactio emptoris semper inquisitio nostra est, valorem pro clientibus creando semper officium nostrum est, longum tempus mutuae utilitatis negotii relatio est quam nos facimus. Certus es particeps in casu tuo in Sinis. Utique alia officia, ut consulentes, offerri possunt etiam.