Tetrafluoridum Carbonis (CF4)

Descriptio Brevis:

Tetrafluoridum carbonii, quod etiam tetrafluoromethanum appellatur, est gas incolor sub temperatura et pressione normalibus, in aqua insolubile. Gas CF4 est gas ad plasma corrosum latissime in industria microelectronica adhibitum. Adhibetur etiam ut gas lasericum, refrigerans cryogenicum, solvens, lubricans, materia insulans, et refrigerans pro tubis detectoribus infrarubris.


Detalia Producti

Etiquettae Productarum

Parametri Technici

Specificatio 99.999%
Oxygenium + Argon ≤1ppm
Nitrogenium ≤4 ppm
Humiditas (H₂O) ≤3 ppm
HF ≤0.1 ppm
CO ≤0.1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbyna ≤1 ppm
Impuritates Totales ≤10 ppm

Tetrafluoridum carbonii est hydrocarbonium halogenatum cum formula chemica CF4. Condici potest ut hydrocarbonium halogenatum, methanum halogenatum, perfluorocarbonium, vel ut compositum inorganicum. Tetrafluoridum carbonii est gas incolor et inodorum, insolubile in aqua, solubile in benzeno et chloroformio. Stabile sub temperatura et pressione normalibus, vitanda sunt oxidantia fortia, materiae inflammabiles vel combustibiles. Gas non combustibile est, pressio interna vasis augebitur cum calorem magnum exponitur, et periculum fissurae et explosionis est. Chemice stabile et non inflammabile est. Solum reagens liquidum ammoniae-natrii metallici in temperatura ambiente operari potest. Tetrafluoridum carbonii est gas quod effectum tepidarium causat. Valde stabile est, diu in atmosphaera manere potest, et est gas tepidarium potentissimum. Tetrafluoridum carbonii adhibetur in processu corrosionis plasmatis variorum circuituum integratorum. Etiam adhibetur ut gas laser, et in refrigerantibus temperaturae humilis, solventibus, lubricantibus, materiis insulantibus, et refrigerantibus pro detectoribus infrarubris adhibetur. Gas plasmatis ad corrosionem in industria microelectronica frequentissime adhibitum est. Mixtura est gasis tetrafluoromethani altae puritatis, gasis tetrafluoromethani altae puritatis et oxygenii altae puritatis. Late adhiberi potest in silicio, dioxido silicii, nitrido silicii, et vitro phosphosilicato. Corrosio materiarum tenuium pellicularum, ut tungsteni et tungsteni, etiam late adhibetur in purgatione superficierum instrumentorum electronicorum, productione cellularum solarium, technologia laserica, refrigeratione temperaturae humilis, inspectione effluxionis, et detergente in productione circuituum impressorum. Ut refrigerans temperaturae humilis et technologia corrosionis siccae plasmatis pro circuitibus integratis adhibetur. Cautiones de conservatione: In horreo gasis non combustibilis frigido, ventilato, conserva. Ab igne et fontibus caloris procul habe. Temperatura conservationis 30°C non excedere debet. Seorsum a combustibilibus et oxidantibus facile (combustibilibus) conservandum est, et conservatio mixta vitanda est. Area conservationis apparatu curationis effluxionis in casu necessitatis instructa esse debet.

Applicatio:

① Refrigerans:

Tetrafluoromethanum interdum ut refrigerans temperaturae humilis adhibetur.

  fdrgr Gregorius

② Acquaeductus:

In microfabricatione electronica, solus vel in compositione cum oxygenio ut etchant plasmatis pro silicio, dioxido silicii, et nitrido silicii adhibetur.

dsgre rgg

Sarcina ordinaria:

Productum Tetrafluoridum CarboniiCF4
Magnitudo Sarcinae Cylindrus 40Ltr Cylindrus 50Ltr  
Pondus Nettum Impletionis/Cylindrum Triginta chiliogrammata XXXVIII chiliogrammata  
Quantitas in receptaculo viginti pedum onusta 250 cylindri 250 cylindri
Pondus Nettum Totale 7.5 Tonnae 9.5 Tonnae
Pondus Tarae Cylindri 50 chiliogrammata 55 kg
Valva CGA 580

Commodum:

①Magna puritas, recentissima facilitas;

②Fabricator certificatorum ISO;

③Celeris traditio;

Systema analyticum interretiale ad qualitatem in omni gradu moderandam;

⑤Magna exigentia et processus meticulosus tractandi cylindrum ante impletionem;


  • Praecedens:
  • Deinde:

  • Nuntium tuum hic scribe et nobis mitte.