Sinis New Product High Quality 99.9% ~ 99,999% Carbon Tetrafluoride CF4 Refrigerant Gas

Nostri aim esse adimplere nostrae shoppers per offering aureum comitatu, ipsum bonum valorem et bonum qualis pro Sina New Carbon Tetrafluoride CF4 Refrigerant Gas, Welcome omnes clients of Habitaculum et foris, ut ad nostram ad nostro cooperante.
Nostram adimplere nostrae shoppers offering aureum comitatu valde bona valorem et bonumSinis CF4 Gas et Carbon Tetrafluoride Gas, Si opus habere aliquam nostram mercandis, aut habere alias items ut produci, fac mittas nos inquisita, exempla et in profundum drawings. Interea intendens ad develop in an international coeptis coetus, expectamus ad accepto offert ad iuncturam ventures et alia cooperantem projects.

Technical parametri

Carbon Tetrafluoride est a halogenated hydrocarbon cum eget formula cf4. Non potest esse ut halogenated hydrocarbon, halogenated Methane, perfluorocarbon, aut sicut anorganicis compositis. Carbon Tetrafluoride est colore et odorless Gas, insolubilis in aquis, solutum in benzene et chloroform. Firmum sub normalis temperatus et pressura, vitare fortes oxidants, flammabiles et combustable materiae. Non-combustible Gas, internum pressura est continens et crescat cum expositae ad altum calorem, et est periculum artificio et CREPITUS. Est chemica firmum et non-flammabiles. Tantum Liquid Ammonia-sodium metallum Reagent potest operari ad locus temperatus. Carbon Tetrafluoride est a Gas, qui facit CONSERVATORIUM effectus. Est ipsum firmum, potest manere in atmosphaera diu, et est valde potens CONSERVATORIUM Gas. Carbon Tetrafluoride adhibetur in plasma Etching processum de variis integrated circuitus. Est etiam usus est ut laser Gas, et adhibetur in humilis-temperatus refrigerants, solvents, lubricants, insulating materiae, et coolants ad infrared detectors. Est maxime usus plasma Etching Gas in Microelectronics industria. Est mixturam de Tetraflorometrhane summus puritas Gas et Tetrafluorthae summus puritas Gas et summus puritas oxygeni. Non potest esse late in Silicon, Silicon Dioxide, Silicon Nitride et phosphosilicate speculum. Et erisching tenuis film materias ut Tungsten et Tungsten est etiam late in superficiem Purgato de electronic cogitationes, solaris cellula productio, laser technology, humilis-temperature refrigerationem, Leak inspectionem, et purgatur in excudit, Leak, et purgatam in circuitu. Usus est humilis-temperatus refrigerare et plasma sicco etching technology ad integrated circuitus. DECAUTATIO ad repono: copia in a frigus, uentilandam non-combustibilis Gas CELLA. Custodiant ab igne et calor fontes. Storage temperatus debet non excedat XXX ° c. Debet recondita separatim facile (combustable) combustibles et oxidants et vitare mixta repono. Repono area debet instructi leakage emergency curatio apparatu.

Application:

① refrigerare:

Tetrafluorathane est aliquando usus est humilis temperatus refrigeratur.

② Etching:

Non est in electronics microfabrication solum vel in tandem coniunctim afficient cum oxygeni sicut plasma etchant et Silicon, Silicon Dioxide et Silicon Nitride.

Normal Package:

Utilitas:

①high puritate, tardus facilitas;

Certificatorium Certificatorium;

③fast partus;

④on-linea analysis ratio ad qualis imperium in omni gradu;

⑤high postulationem et anxius processus pertractatio cylindrici ante implens;Nostri aim esse adimplere nostrae shoppers per offering aureum comitatu, ipsum bonum valorem et bonum qualis pro Sina New Carbon Tetrafluoride CF4 Refrigerant Gas, Welcome omnes clients of Habitaculum et foris, ut ad nostram ad nostro cooperante.
Sinis New ProductSinis CF4 Gas et Carbon Tetrafluoride Gas, Si opus habere aliquam nostram mercandis, aut habere alias items ut produci, fac mittas nos inquisita, exempla et in profundum drawings. Interea intendens ad develop in an international coeptis coetus, expectamus ad accepto offert ad iuncturam ventures et alia cooperantem projects.