Sollemne nostrum animum "Innovationis afferens progressus, qualitas quaedam subsistentiam faciens, beneficium administrationis venalicium, Credit score clientes attrahendi ad Hot-vendere Sinas High Purity Carbon Tetrafluoride CF4 Gas for Semiconductor Industry Etching, Nos ab omnibus ambulationibus amiculos benigne excipientes. vitam cotidianam ad mutuam cooperationem venandam et cras splendidiorem et splendidiorem aedificabimus.
Innovationis progressum, qualitas quaedam subsistentiae, Administrationis venalicium beneficium, Credit score attrahens clientes.Sina CF4 Refrigerant Gas, Gas Cylindrus, Socius tuus fidelis sumus in mercatis internationalibus cum optima qualitate bona. Commoda nostra sunt innovatio, flexibilitas et fides quae proximis viginti annis aedificata sunt. Nos operam navamus clientibus nostris ut elementum principale ad confirmandas diuturnum tempus relationes. Nostra continua dispositio solutionum altitudinis gradus in compositione cum nostro excellenti prae-venditione et post-sales ministerium efficit validam aemulationem in foro magis magisque globali.
Specification | 99.999% |
Oxygeni+Argon | ≤1ppm |
Nitrogen | ≤4 ppm |
Humor(H2O) | ≤3 ppm |
HF | ≤0.1 ppm |
CO | ≤0.1 ppm |
CO2 | ≤1 ppm |
SF6 | ≤1 ppm |
Halocarbynes | ≤1 ppm |
Totalis immunditias | ≤10 ppm |
Carbon tetrafluoride hydrocarbon cum formula chemica cf4. Respici potest ut hydrocarbon halogenatum, methanum halogenatum, perfluorocarbon, vel sicut compositum inorganicum. Carbon tetrafluoride est gas sine colore et inodoro, in aqua solubilis, in benzene et chloroformi solubilis. Stabilis sub temperatura et pressione normali, ne fortes oxidantes, materiae combustibiles vel flammabiles. Gas non-combustible, pressio interna continentis augebit cum magno calore exposita, periculum est creptionis et explosionis. Est chemica stabilis et non flammabilis. Solum liquidum ammonia-sodium metallicum in locus temperatus operari potest. Carbon tetrafluoride est gas quod effectus CONSERVATORIUM facit. Valde stabilis est, diu manere potest in aere, et est validissima CONSERVATORIUM gas. Carbon tetrafluoride adhibetur in processu plasmatis etingificationis variarum circuiturum integralium. Usurpatur etiam pro laser gas, et in frigidis temperaturas refrigerantibus, menstrua, lubricantibus, insulis, et refrigerantibus pro detectoribus ultrarubrum adhibetur. Maxime usus est plasma etching gas in microelectronics industriae. Est mixtura gasi tetrafluoromethane puritatis summus et tetrafluoromethane gas puritatis summus et summus oxygenii puritatis. Late adhiberi potest in siliconibus, dioxide pii, nitride pii, et vitro phosphosilicate. Cessura materiae tenuium cinematographicarum qualium tungsten et tungsten etiam late adhibetur in superficie purgandarum electronicarum machinarum, productio cellularum solaris, technologia laser, frigiditatis temperatura refrigerationis, inspectionis fatiscentis, et in productione circumitione impressa purgat. Usus est humilis temperatus refrigerans et plasma arida et technologiae technologiae pro circuitibus integratis. Cautiones pro repositione: Copia in loco frigido, ventilato gas cellarium non combustibile. Ab igne et aestu fontes abstinete. Temperatura repono non excederet 30°C. Seorsim a combustibilibus et oxidantibus facile condi debet, ac permixta repositione vitare. Tabularium instrui debet cum ultrices subitis curationis instrumentis.
Refrigerant:
Tetrafluoromethane interdum adhibetur ut refrigerans temperatus humilis.
Etching:
Adhibetur in sola microfabricatione electronicis vel in compositione cum oxygenio sicut plasma etcantis siliconis, dioxidis pii, et nitridis siliconis.
Productum | Carbon Tetrafluoride CF4 | ||
sarcina Location | 40Ltr Cylindri | 50Ltr Cylindri | |
Implens Net pondus / Cyl | 30Kgs | 38Kgs | |
QTY Loaded in 20'Container | 250 Cyls | 250 Cyls | |
Totalis Net Pondus | 7.5 Tons | 9.5 Tons | |
Cylindrus Tare pondus | 50Kgs | 55Kgs | |
Valvae | CGA 580 |
Summa pudicitia, facilitas tardus;
②ISO libellum opificem;
Fast partus;
④ In-linea analysis ratio qualitatis in omni gradu moderandi;
⑤ Excelsa postulatio et processus anxius ad tractandum cylindrum ante impletionem;Sollemne nostrum animum "Innovationis afferens progressus, qualitas quaedam subsistentiam faciens, beneficium administrationis venalicium, Credit score clientes attrahendi ad Hot-vendere Sinas High Purity Carbon Tetrafluoride CF4 Gas for Semiconductor Industry Etching, Nos ab omnibus ambulationibus amiculos benigne excipientes. vitam cotidianam ad mutuam cooperationem venandam et cras splendidiorem et splendidiorem aedificabimus.
Hot-venditionisSina CF4 Refrigerant Gas, Gas Cylindrus, Socius tuus fidelis sumus in mercatis internationalibus cum optima qualitate bona. Commoda nostra sunt innovatio, flexibilitas et fides quae proximis viginti annis aedificata sunt. Nos operam navamus clientibus nostris ut elementum principale ad confirmandas diuturnum tempus relationes. Nostra continua dispositio solutionum altitudinis gradus in compositione cum nostro excellenti prae-venditione et post-sales ministerium efficit validam aemulationem in foro magis magisque globali.