Hydrogenii Chloridum (HCl)

Parametri Technici:

Hydrogenii chloridum formulam chemicam HCl habet. Molecula hydrogenii chloridi ex atomo chlorini et atomo hydrogenii constat. Est gas incolor cum odore acriore. Gas corrosivum, non combustibile, cum aqua non reagit sed facile solubile in aqua. Saepe in aere praesens est sub forma vaporum acidi hydrochlorici. Hydrogenii chloridum facile solubile est in ethanolo et aethere, et etiam solubile in multis aliis substantiis organicis; facillime solubile in aqua, ad 0°C, unum volumen aquae circiter 500 volumina hydrogenii chloridi dissolvere potest. Solutio eius aquosa vulgo acidum hydrochloricum appellatur, et nomen scientificum eius est acidum hydrochloricum. Acidum hydrochloricum concentratum volatile est. Hydrogenii chloridum incolor est, cum puncto liquefactionis -114.2°C et puncto ebullitionis -85°C. In aere non ardet et thermaliter stabile est. Non putrescit usque ad circiter 1500°C. Odorem suffocantem habet, irritationem fortem tractus respiratorii superioris habet, et corrosivum est oculis, cuti et membranis mucosis. Densitas eius maior est quam aeris. Proprietates chemicae hydrogenii chloridi sicci valde inactivae sunt. Metalla alcalina et metalla alcalino-terrea in hydrogenii chloridi comburere possunt, et cum natrium comburitur, flammam flavam claram emittit. Hydrogenii chloridi in industria petrochemica adhibetur ad efficaciam et regenerationem catalysatorum promovendam et viscositatem petrolei augendam; adhiberi potest ad acidum chlorosulfonicum, gummi syntheticum, etc. producendum; etiam adhiberi potest ad tincturas, odores, synthesim medicamentorum, varia chloridi et inhibitores corrosionis faciendos, et ad purgandum, decapandum, galvanizandum metallorum, conciandum, refinandum vel fabricandum metallo duro. Hydrogenii chloridi gaseosi altae puritatis late adhibetur in processibus accretionis epitaxialis silicii, poliendi phase vaporis, gettering, corrosionis et purgandi in industria electronica.

Applicatio:

①Materia:

Plerumque hydrogenii chloridum in productione acidi hydrochlorici adhibetur. Est etiam reagens magni momenti in aliis transformationibus chemicis industrialibus.

②Semiconductor:

In industria semiconductorum, et ad corrosionem crystallorum semiconductorum et ad purificationem silicii per trichlorosilanum (SiHCl3) adhibetur.

③Laboratorium:

In laboratorio, formae anhydricae gasis praecipue utiles sunt ad generanda acida Lewisiana chlorido fundata, quae omnino sicca esse debent ut sua loca Lewisiana functionem praestare possint.

Sarcina ordinaria:

Commoda:

①Magna puritas, recentissima facilitas;

②Fabricator certificatorum ISO;

③Celeris traditio;

Systema analyticum interretiale ad qualitatem in omni gradu moderandam;

⑤Magna exigentia et processus meticulosus tractandi cylindrum ante impletionem;