Minimum MOQ pro Ducens Manufacturer pro Sinis Octafluorocyclobutane, Refrigerant Gas R318, C4f8

Periti sumus fabrica. Plures ex certificationibus crucialorum mercatus sui conciliandis ad Maximum MOQ pro Ducente Manufacturer pro Sinis Octafluorocyclobutane, Refrigerant Gas R318, C4f8, novas et veteres tabernas suscipimus ab omnibus exsistentiae spatiis, ut nos ad diuturnum negotium inceptum commercium et mutuum nos excipiat. res gestae!
Periti sumus fabrica. Maiorem partem e certificationibus crucialibus sui mercatus conciliatus estSina Refrigerant R318 et Octafluorocyclobutane Gas, Si quid productum mercedis exigis, liberum contactus nos sentire memento. Pro certo habemus tuam inquisitionem vel exigentiam promptam operam daturum, solutiones qualitates altae, pretia potiores et oneraria vilia. Gratum est sincere amicos toto orbe terrarum vocare vel visitare, ut de cooperatione pro meliore futuro collocentur!

Technical Parameters

Octafluorocyclobutana est substantia chemica, derivatio cyclobutanae perfluorinata, eiusque formula chemica C4F8. Hyalina, INOLENS, non-flammabilis Gas. Stabilis in natura et non-toxico. In casu magno caloris, pressio interna continentis augebit, et periculum creptionis et explosionis erit. Combustio (decomposition) producti hydrogenii fluoride est. Octafluorocyclobutana valde stabilis est et cum aliis substantiis sub condicionibus normalibus non agit. Vas repositionis et reactionis ex ferro et intemerata ferro confici potest ad 120°C, et chalybeus ad 175°C adhiberi potest. Cum CD°C excedit, Materias Inconel ut, nickel et platinum leviter laedi possunt. In D°C, hae materiae effectum catalyticum habent in compositione. In temperaturis calidis (600°C), octafluorocyclobutanae in compositiones carbonis, tetrafluoride et toxici compositae corrumpi possunt. Octafluorocyclobutana applicationes amplissimas habet. Nuper annis late adhibitum est ut refrigerandi vim componendi chlorofluorocarbon prohibitum reponere. Praeterea communiter etiam in instrumentis insulatantibus gas, menstrua, frondis, agentibus spumosis, et magnorum ambitu etchantibus adhibita est. , Sentinam caloris fluidi laborantis et materiae rudis ad monomeros producendos C2F4 et C3F6. Summus puritas octafluorocyclobutanae (supra 5N) adhibetur ut agens engraving et agentis purgatio in circuitibus VLSI. Ob proprietates stabiles, non-toxicitatem, nulla ozona deperditionem potentiae (ODP), et bonae insulationis, octafluorocyclobutanae in campis technicis late usi sunt sicut summus voltatio insulatio, purgatio et engraving, ac plasma curatio in annis proximis. Subitis responsio ad lacus: gerunt se contenta spiritualium et opera vestimenta sua. Interclusum est fons gas. Ventilatio et convection, dilutio et diffusio. Movere receptaculum stillante in area aperta et operam ad evacuationem. Vasa diffluentia diutius adhiberi non possunt, et curatio technica subire debet ut reliquas gasi removeat.

Applicatio:

Cibus Industry:

ea maxime adhibita est ut agentis spargit industriam in cibis, refrigerantibus.

Electronic Industry:

incantare pro circuitione integrata, etiam uti mixtio dielectric cum sf6, et auxilium polymerizationis pro compositis fluorinatis.

Normalis sarcina:

Commodum:

① Plus quam decem annos in foro;

②ISO libellum opificem;

Fast partus;

Stabilis materia rudis;

⑤ In-linea analysis ratio qualitatis in omni gradu moderandi;

⑥ Excelsa postulatio et processus anxius ad tractandum cylindrum ante impletionem;Periti sumus fabrica. Plures ex certificationibus crucialorum mercatus sui conciliandis ad Maximum MOQ pro Ducente Manufacturer pro Sinis Octafluorocyclobutane, Refrigerant Gas R318, C4f8, novas et veteres tabernas suscipimus ab omnibus exsistentiae spatiis, ut nos ad diuturnum negotium inceptum commercium et mutuum nos excipiat. res gestae!
Humilis MOQ forSina Refrigerant R318 et Octafluorocyclobutane Gas, Si quid productum mercedis exigis, liberum contactus nos sentire memento. Pro certo habemus tuam inquisitionem vel exigentiam promptam operam daturum, solutiones qualitates altae, pretia potiores et oneraria vilia. Gratum est sincere amicos toto orbe terrarum vocare vel visitare, ut de cooperatione pro meliore futuro collocentur!