Nuper Arrival Sina Puritas CF4 Gas pro Semiconductor industria Etching

Credimus in: Innovation est nostra anima et spiritus. Bonitas est vita nostra. MANCEPS Opus est enim est Deus noster pro Nuper Arrival Sina High Puritas CF4 Gas ad Semiconductor industria etching, ut sincere facere optimum ad offerre optimum servitium pro omnibus clientibus et negotiatores.
Credimus in: Innovation est nostra anima et spiritus. Bonitas est vita nostra. MANCEPS Opus est enim Deus nosterSinis CF4 Refrigerant Gas, Gas cylindriNunc autem competition in hoc agro valde ferox; Sed ad usque offerimus optimum qualitas, rationabile pretio et maxime consequatur servitium in conatu ad consequi vincere-win metam. "Mutare ad melius!" Est nostra slogan, quod significat "a melius mundus est apud nos, ita lets 'frui!" Mutare ad melius! Esne paratus?

Technical parametri

Carbon Tetrafluoride est a halogenated hydrocarbon cum eget formula cf4. Non potest esse ut halogenated hydrocarbon, halogenated Methane, perfluorocarbon, aut sicut anorganicis compositis. Carbon Tetrafluoride est colore et odorless Gas, insolubilis in aquis, solutum in benzene et chloroform. Firmum sub normalis temperatus et pressura, vitare fortes oxidants, flammabiles et combustable materiae. Non-combustible Gas, internum pressura est continens et crescat cum expositae ad altum calorem, et est periculum artificio et CREPITUS. Est chemica firmum et non-flammabiles. Tantum Liquid Ammonia-sodium metallum Reagent potest operari ad locus temperatus. Carbon Tetrafluoride est a Gas, qui facit CONSERVATORIUM effectus. Est ipsum firmum, potest manere in atmosphaera diu, et est valde potens CONSERVATORIUM Gas. Carbon Tetrafluoride adhibetur in plasma Etching processum de variis integrated circuitus. Est etiam usus est ut laser Gas, et adhibetur in humilis-temperatus refrigerants, solvents, lubricants, insulating materiae, et coolants ad infrared detectors. Est maxime usus plasma Etching Gas in Microelectronics industria. Est mixturam de Tetraflorometrhane summus puritas Gas et Tetrafluorthae summus puritas Gas et summus puritas oxygeni. Non potest esse late in Silicon, Silicon Dioxide, Silicon Nitride et phosphosilicate speculum. Et erisching tenuis film materias ut Tungsten et Tungsten est etiam late in superficiem Purgato de electronic cogitationes, solaris cellula productio, laser technology, humilis-temperature refrigerationem, Leak inspectionem, et purgatur in excudit, Leak, et purgatam in circuitu. Usus est humilis-temperatus refrigerare et plasma sicco etching technology ad integrated circuitus. DECAUTATIO ad repono: copia in a frigus, uentilandam non-combustibilis Gas CELLA. Custodiant ab igne et calor fontes. Storage temperatus debet non excedat XXX ° c. Debet recondita separatim facile (combustable) combustibles et oxidants et vitare mixta repono. Repono area debet instructi leakage emergency curatio apparatu.

Application:

① refrigerare:

Tetrafluorathane est aliquando usus est humilis temperatus refrigeratur.

② Etching:

Non est in electronics microfabrication solum vel in tandem coniunctim afficient cum oxygeni sicut plasma etchant et Silicon, Silicon Dioxide et Silicon Nitride.

Normal Package:

Utilitas:

①high puritate, tardus facilitas;

Certificatorium Certificatorium;

③fast partus;

④on-linea analysis ratio ad qualis imperium in omni gradu;

⑤high postulationem et anxius processus pertractatio cylindrici ante implens;Credimus in: Innovation est nostra anima et spiritus. Bonitas est vita nostra. MANCEPS Opus est enim est Deus noster pro Nuper Arrival Sina High Puritas CF4 Gas ad Semiconductor industria etching, ut sincere facere optimum ad offerre optimum servitium pro omnibus clientibus et negotiatores.
Nuper adventuSinis CF4 Refrigerant Gas, Gas cylindriNunc autem competition in hoc agro valde ferox; Sed ad usque offerimus optimum qualitas, rationabile pretio et maxime consequatur servitium in conatu ad consequi vincere-win metam. "Mutare ad melius!" Est nostra slogan, quod significat "a melius mundus est apud nos, ita lets 'frui!" Mutare ad melius! Esne paratus?