Nuper adventu Sinarum High Munditia CF4 Gas pro Semiconductor Industry Etching

Credimus: Innovatio est anima et spiritus noster. Bonitas vita nostra est. MANCEPS habere opus est Deus noster pro Novo adventu Sinarum Alta Puritas CF4 Gas pro Semiconductor Industry Etching, Nos sincere optimum operam dabimus pro omnibus clientibus et negotiatoribus optime offerre.
Credimus: Innovatio est anima et spiritus noster. Bonitas vita nostra est. MANCEPS habere opus est Deus nosterSina CF4 Refrigerant Gas, Gas CylindrusCertamen in hac acie est vehementer; at nos adhuc offerimus optimam qualitatem, rationabilem pretium, ac consideratissimum ministerium in conatu ad metam conciliandam consequendam. "Mutare in melius!" slogan noster est, quod significat "Melius est coram nobis, ut fruamur eo!" Muta in melius! Esne paratus?

Technical Parameters

Carbon tetrafluoride hydrocarbon cum formula chemica cf4. Respici potest ut hydrocarbon halogenatum, methanum halogenatum, perfluorocarbon, vel sicut compositum inorganicum. Carbon tetrafluoride est gas sine colore et inodoro, in aqua solubilis, in benzene et chloroformi solubilis. Stabilis sub temperatura et pressione normali, ne fortes oxidantes, materiae combustibiles vel flammabiles. Gas non-combustible, pressio interna continentis augebit cum magno calore exposita, periculum est creptionis et explosionis. Est chemica stabilis et non flammabilis. Solum liquidum ammonia-sodium metallicum in locus temperatus operari potest. Carbon tetrafluoride est gas quod effectus CONSERVATORIUM facit. Valde stabilis est, diu manere potest in aere, et est validissima CONSERVATORIUM gas. Carbon tetrafluoride adhibetur in processu plasmatis etingificationis variarum circuiturum integralium. Usurpatur etiam pro laser gas, et in frigidis temperaturas refrigerantibus, menstrua, lubricantibus, insulis, et refrigerantibus pro detectoribus ultrarubrum adhibetur. Maxime usus est plasma etching gas in microelectronics industriae. Est mixtura gasi tetrafluoromethane puritatis summus et tetrafluoromethane gas puritatis summus et summus oxygenii puritatis. Late adhiberi potest in siliconibus, dioxide pii, nitride pii, et vitro phosphosilicate. Cessura materiae tenuium cinematographicarum qualium tungsten et tungsten etiam late adhibetur in superficie purgandarum electronicarum machinarum, productio cellularum solaris, technologia laser, frigiditatis temperatura refrigerationis, inspectionis fatiscentis, et in productione circumitione impressa purgat. Usus est humilis temperatus refrigerans et plasma arida et technologiae technologiae pro circuitibus integratis. Cautiones pro repositione: Copia in loco frigido, ventilato gas cellarium non combustibile. Ab igne et aestu fontes abstinete. Temperatura repono non excederet 30°C. Seorsim a combustibilibus et oxidantibus facile condi debet, ac permixta repositione vitare. Tabularium instrui debet cum ultrices subitis curationis instrumentis.

Applicatio:

Refrigerant:

Tetrafluoromethane interdum adhibetur ut refrigerans temperatus humilis.

Etching:

Adhibetur in sola microfabricatione electronicis vel in compositione cum oxygenio sicut plasma etcantis siliconis, dioxidis pii, et nitridis siliconis.

Normalis sarcina:

Commodum:

Summa pudicitia, facilitas tardus;

②ISO libellum opificem;

Fast partus;

④ In-linea analysis ratio qualitatis in omni gradu moderandi;

⑤ Excelsa postulatio et processus anxius ad tractandum cylindrum ante impletionem;Credimus: Innovatio est anima et spiritus noster. Bonitas vita nostra est. MANCEPS habere opus est Deus noster pro Novo adventu Sinarum Alta Puritas CF4 Gas pro Semiconductor Industry Etching, Nos sincere optimum operam dabimus pro omnibus clientibus et negotiatoribus optime offerre.
nuper adventuSina CF4 Refrigerant Gas, Gas CylindrusCertamen in hac acie est vehementer; at nos adhuc offerimus optimam qualitatem, rationabilem pretium, ac consideratissimum ministerium in conatu ad metam conciliandam consequendam. "Mutare in melius!" slogan noster est, quod significat "Melius est coram nobis, ut fruamur eo!" Muta in melius! Esne paratus?