Hexafluoridum sulfuris est gas cum excellentibus proprietatibus insulationis et saepe adhibetur in extinctione arcuum altae tensionis et transformatoribus, lineis transmissionis altae tensionis, transformatoribus, et cetera. Attamen, praeter has functiones, hexafluoridum sulfuris etiam adhiberi potest ut corrosionem electronicam. Hexafluoridum sulfuris altae puritatis gradus electronici corrosionem electronicam idealem est, quae late in agro technologiae microelectronicae adhibetur. Hodie, editor gasis specialis Niu Ruide, Yueyue, applicationem hexafluoridi sulfuris in corrosionem nitridi silicii et vim variorum parametrorum introducet.
De processu corrosionis plasmatis SF6 cum SiNx disserimus, inter quas mutatio potentiae plasmatis, proportio gasis SF6/He et additio gasis cationici O2, eius influxus in celeritatem corrosionis strati tutelaris elementi SiNx TFT tractamus, et usus radiationis plasmatis. Spectrometrum mutationes concentrationis cuiusque speciei in SF6/He, plasmate SF6/He/O2 et celeritate dissociationis SF6 analyzat, et relationem inter mutationem celeritatis corrosionis SiNx et concentrationem speciei plasmatis explorat.
Studia invenerunt cum vis plasmatis augetur, celeritatem corrosionis augeri; si celeritas fluxus SF6 in plasma augetur, concentratio atomi F crescit et positive cum celeritate corrosionis correlata est. Praeterea, post additionem gasis cationici O2 sub fixa celeritate fluxus totali, effectum habebit celeritatem corrosionis augendi, sed sub diversis rationibus fluxus O2/SF6, diversi mechanismi reactionis erunt, qui in tres partes dividi possunt: (1) Ratio fluxus O2/SF6 valde parva est, O2 dissociationem SF6 adiuvare potest, et celeritas corrosionis hoc tempore maior est quam cum O2 non additur. (2) Cum proportio fluxus O2/SF6 maior est quam 0.2 ad intervallum appropinquantem 1, hoc tempore, propter magnam quantitatem dissociationis SF6 ad formandos atomos F, celeritas corrosionis maxima est; Sed simul, atomi O in plasma etiam augentur et facile est SiOx vel SiNxO(yx) cum superficie pelliculae SiNx formare, et quo plures atomi O augentur, eo difficilius atomos F reactionem corrosionis praebebunt. Ergo, celeritas corrosionis tardior fieri incipit cum proportio O2/SF6 ad 1 proxima est. (3) Cum proportio O2/SF6 maior quam 1 est, celeritas corrosionis decrescit. Propter magnum augmentum O2, atomi F dissociati cum O2 colliduntur et OF formant, quod concentrationem atomorum F minuit, ita ut celeritas corrosionis decrescat. Ex hoc videri potest, cum O2 additur, rationem fluxus O2/SF6 inter 0.2 et 0.8 esse, et optimam celeritatem corrosionis obtineri posse.
Tempus publicationis: VI Decembris MMXXI
