Usus hexafluoridi tungsteni (WF6)

Hexafluoridum tungsteni (WF6) per processum CVD in superficie lamellae deponitur, fossas interconnectionis metallicae implens et interconnexionem metallicam inter stratas formans.

Primum de plasma disseramus. Plasma est forma materiae plerumque ex electronibus liberis et ionibus oneratis composita. Late in universo existit et saepe quartus status materiae habetur. Status plasmatis, etiam "Plasma" appellatus, appellatur. Plasma magnam conductivitatem electricam habet et fortem effectum copulationis cum campo electromagnetico exercet. Gas partim ionizatum est, ex electronibus, ionibus, radicalibus liberis, particulis neutris et photonibus compositum. Ipsum plasma est mixtura electrice neutra, particulas physice et chemice activas continens.

Explicatio directa est haec: sub actione magnae energiae, molecula vim van der Waals, vim nexus chemici, et vim Coulomb superabit, et formam electricitatis neutrae in toto exhibebit. Simul, magna energia ab externo partita has tres vires superat. Functione, electrones et iones statum liberum exhibent, qui artificialiter sub modulatione campi magnetici adhiberi potest, ut in processu corrosionis semiconductorum, processu CVD, PVD, et processu IMP.

Quid est alta energia? Theoria quidem, et alta temperatura et alta frequentia radiophonica adhiberi possunt. Generaliter, alta temperatura fere impossibile est ad consequendum. Haec temperatura requisita nimis alta est et fortasse prope temperaturam solis esse potest. Hoc fere impossibile est ad hoc ipsum assequendum. Quapropter industria plerumque alta frequentia radiophonica ad eam consequendam utitur. Plasma radiophonica usque ad 13MHz+ pervenire potest.

Hexafluoridum tungsteni sub actione campi electrici plasmatur, deinde vapore deponitur campo magnetico. Atomi W similes sunt pennis anserinis hiemalibus et sub actione gravitatis in terram cadunt. Paulatim, atomi W in foramina pervia deponuntur, et tandem plena per foramina implentur ad nexus metallicos formandos. Praeter depositionem atomorum W in foramina pervia, num etiam in superficie crustulae deponentur? Ita, certe. Generaliter loquendo, processum W-CMP, quem processum mechanicum triturae appellamus, ad removendum uti potes. Simile est scopa ad pavimentum post nivem copiosam purgandum. Nix in terra aufertur, sed nix in foramine in terra manebit. Deorsum, fere idem.


Tempus publicationis: XXIV Decembris MMXXI