ElectronicSpecial Gasorumquae est momenti genere specialis vapores. Penetrant fere omnis link of semiconductor productio et sunt necessaria rudis materiae ad productionem electronic industries ut ultra-magna-scale integrated circuits, plana panel ostentationem cogitationes et solaris cellulis.

In semiconductor technology, fluorine, quibus vapores sunt late usus. Currently in global electronic Gas Market, fluorine, quibus electronic gases propter circiter XXX% de totalis. Fluor, quibus electronic vapores sunt magni momenti pars specialis electronic gases in agro electronic notitia materiae. Sunt maxime usus ut Purgato agentibus et Etching agentibus, et quoque potest esse ut dopants, film-formatam materiae, etc. in hoc articulus, auctor tollet vos ad intelligere communi fluorine-continet gases.

Et haec sunt communiter usus fluorine, quibus vapores

NITROGENIUM Trifluoride (NF3): A Gas usus est ad Purgato et removere deposits, plerumque usus est ad Purgato reactionem gazophylacia et apparatu superficiebus.

Sulphur Hexafluoride (SF6): A fluorinating agente usus est in oxide depositionem processibus et quasi insulating Gas ad impletionem insulating instrumentis.

Hydrogenium fluoride (HF) solebat removere oxides ex Silicon superficiem et quod est etchant etching Silicon et alia materiae.

NITROGENIUM Fluoride (FL): solebat etch materiae ut Silicon Nitride (peccatum) et aluminium nitride (aln).

Trifluorhetahane (Chf3) etTetrafluorathane (Cf4): Usus ad Etch fluoride materiae ut Silicon fluoride et aluminium fluoride.

Tamen, fluorine, quibus vapores habent quaedam pericula, inter toxicity, corrosiveness et flammability.

Toxicity

Quidam fluorine, quibus vapores sunt toxicus, ut hydrogenii fluoride (HF), cuius vapor valde vexo ad cute et respiratorii tractus et nocivis ad humanam salutem.

Corrosiveness

Hydrogenium fluoride fluorides altus corrosi potest gravi damnum cutis oculos respiratorii tractu.

Flammability

Quidam fluorides sunt flammabiles et agere cum oxygeni vel aqua in aere dimittere vehemens calor et toxicus vapores, quod potest facere ignis aut CREPITUS.

Summus pressura aleam

Quidam fluorinated gasorum sunt explosivae sub magno pressura et eget speciale cura cum usus et condita.

Impulsum in amet

Fluor, quibus vapores habent altum atmosphaerica vita et GWP values, quod habent perniciosius effectus in atmosphaerica ozone layer et potest causare global calefactionem et environmental pollutio.

Et applicationem in vapores in emergentes agros ut electronics continues ad deepen, ferens magna moles novus demanda ad industriae vapores. Ex magna copia novum productio facultatem major electronic components ut semiconductors et display tabulata in continenti Sinis in proximo paucis annis, tum fortis in domesticis electronic elit.