OEM/ODM Manufacturer Sinis High puritas 99.9999% Silane Gas

Solutiones nostrae late agnitae et creditae sunt a consumers et occurrent cum assidue oeconomicis et socialibus evolutionibus pro OEM/ODM Manufacturer Sinarum Alta Puritas 99,9999% Silane Gas, Honestum est principium nostrum, processus peritus noster est effectus, ministerium nostrum scopo ac clientium satisfactio nostra diu terminus!
Solutiones nostrae late cognoscuntur et confidunt ab ussoribus et occurrent semper oeconomicis et socialibus elaborandisSina Silane Gas, Sih4 GasCum spiritu “fidei primo, progressionis per innovationem, sinceram cooperationem et incrementum coniunctum”, nostra societas nititur apud te futurum clarissimum creare, ut praestantissimum suggestum fiat ad solutiones nostras in Sinis educendas!

Technical Parameters

Silane compositum est ex pii et hydrogenii. Terminus generalis est pro serie compositorum, inter monosilane (SiH4), disilane (Si2H6) et nonnulla compositorum altior-gradu silicon-hydrogenis. Inter eos frequentissima monosilane est, interdum ut silane pro brevis. Silane est gas sine colore allium foedum. In aqua solubilis, in ethanolo, aethere, benzene, chloroformi, pii chloroformi et tetrachloride pii, fere insolubili. Silanarum proprietates chemicae multo magis quam alkanes actiuae sunt et facile oxidized sunt. Combustio spontanea fieri potest cum in contactu cum aere. Nitrogenium infra 25°C non agit, et cum hydrocarbono mixto in cella temperatura non agit. Ignis et explosio silani effectus reactionis sunt cum oxygenio. Silane perquam sensilis dolori et aeris est. Silane cum quadam intentione etiam explosive cum oxygenio agere in temperie -180°C. Silane praecipua gasi peculiaris usus in processibus microelectronicis semiconductoris factus est, et in praeparatione variarum membranarum microelectronicarum adhibetur, inclusa membrana crystallina, microcrystallina, polycrystallina, oxydatum silicon, nitride silicon, et silicides metallicae. Applicationes microelectronicae silani adhuc altius explicantur: epitaxia humilis, epitaxia selectiva, epitaxia heteroepitaxialis. Non solum pro machinis pii et circuitibus integratis pii, sed etiam pro machinis semiconductoribus compositis (gallium arsenide, carbide pii, etc.). Etiam applicationes habet in praeparatione superlattici quantum materiae bene. Affirmari potest silane usum esse in omnibus fere provectis in lineas productionis integratis recentioribus temporibus. Applicatio silani sicut silicon-continens cinematographica et tunica, a microelectronicorum traditionalium industria in varios campos, ut ferrum, machinamenta, chemicals et optica, dilatavit. Alia applicatio potentiae silanae est fabricandi partes machinae ceramicae summus operandi, praesertim usus silani ad silicidium (Si3N4, SiC, etc.) microform technologiae magis magisque attentionem attraxit.

Applicatio:

Electronic:

Silane applicatur strata polycrystallina siliconis in lagana Pii cum semiconductores et sealants fabricandis.

Solaris:

Silane in fabricatione moduli photovoltaici solaris adhibetur.

Industrial:

Adhibetur in Energy-salvando Vitro viridi et depositioni tenuis processus cinematographici ad vapori applicatus.

Normalis sarcina:

Commodum:

① Plus quam decem annos in foro;

②ISO libellum opificem;

Fast partus;

Stabilis materia rudis;

⑤ In-linea analysi ratio qualitatis in omni gradu moderandi;

⑥ Excelsa postulatio et processus anxius ad tractandum cylindrum ante impletionem;

⑦ Puritas: puritas alta electronic gradus;

Ritus: Materiae cellae solaris; pu- rium altum polysilicon, oxydatum pii et fibra optica; vestibulum vitreum coloratum.Solutiones nostrae late agnitae et creditae sunt a consumers et occurrent cum assidue oeconomicis et socialibus evolutionibus pro OEM/ODM Manufacturer Sinarum Alta Puritas 99,9999% Silane Gas, Honestum est principium nostrum, processus peritus noster est effectus, ministerium nostrum scopo ac clientium satisfactio nostra diu terminus!
Altera / ODM ManufacturerSina Silane Gas, Sih4 GasCum spiritu “fidei primo, progressionis per innovationem, sinceram cooperationem et incrementum coniunctum”, nostra societas nititur apud te futurum clarissimum creare, ut praestantissimum suggestum fiat ad solutiones nostras in Sinis educendas!