Si nescis quid gas ad producendum uti debes, technicam fabrum professionalem habemus pro 3mensibus liberis online consulendi.
Si nescis quam puritatem elegeris, mittemus ad te omnem puritatis immunditiam speciemque tuae referentis, et suggeres.
Si parva sarcina opus est, potuimus infra 10liter cylindrum praebere; si sarcina magna eget, potuimus ton tympanum vel iso piscinam praebere. Omnis est optio.
Si plura genera gasorum in uno vase emere voles. Bona idea, hoc modo te conservare potest sumptus naviculas proprias. Societas nostra fere 99% genera vaporum in foro supplet. Si singula accurata invenire non potes, libenter senties ut inquisitionem nobis mittas.
Si primum tempus felis importare, nolite solliciti esse. Agores logistics professionales proprium habemus adiutorium. et nos quoque cooperatos in transmarinis naviculariis locales agentis ad subsidium emptoris importat.
★Si gas finem user, inquisitionem mitte TYQT
★Si mercator medius es, inquisitionem mitte TYQT
★Si gas comitatu es, inquisitionem mitte TYQT
★Si mollis licitatio es, inquisitionem mitte TYQT .
| Cibus Gases | CH4, C2H2, CO; |
| Welding Gases | Ar-ille, Ar-H2, Ar-O2, Ar-CO2, CO2, O2, N2, H2 ; |
| Liquid Gases | C2H4, SO2, CO2, NO2, N2O, C3F6, H2S, HCl, BCl3, BF3，SF6 |
| Calibration Gases | CH4-N2, NO-N2, H2S-N2, CO2-N2, SF6-N2, SiH4-He. |
| Doping Gases | AsH3, PH3, GeH4, B2H6, AsCl3, AsF3, H2S, BF3, BCl3; |
| Crystal incrementum | SiH4, SiHCl3, SiCl4, B2H6, BCl3, AsH3, PH3, GeH4, Ar, H2 |
| Gas tempus etching | Cl2, HCl, HF, HBr, SF6 |
| Plasma etching | SiF4, CF4, C3F8, CHF3, C2F6, NF3, SF6, BCl3, N2, Ar, He. |
| Ion Beam Etching | C3F8, CHF3, CClF3, CF4 |
| Ion implantatio | AsF3, PF3, PH3, BF3, BCl3, SiF4, SF6, N2, H2 |
| CVD Gases | SiH4, SiH2Cl2, SiCl4, NH3, NO, O2 |
| Diluens Gases | N2, Ar, H2, CO2, N2O, O2 |
| Doping Gases | SiH4, SiCl4, Si2H6, HCl, PH3, AsH3, B2H6, N2, Ar, H2 ; |
