Cheap PriceList for Specialty Gases China Supple Electron/Semiconductor Gradus 99.999% Puritas Carbon Tetrafluoride/Tetrafluoromethane CF4 Gas Price

"Sinceritas, Innovatio, Rigorousness et Efficientia" possunt esse constans nostrae ordinationis conceptio propter illud diuturnum tempus cum clientibus communibus pro mutua reciprocitate et mutua lucro pro Cheap PriceList pro Specialitate Gases Sinarum Supple Electron/Semiconductor Gradus 99,999% Puritas Carbonis Tetrafluoride/Tetrafluoromethane CF4 Gas Price, Cum parvulus escalating societas, non potuimus efficacissima, sed maximum nostrum conamur plerumque esse socium phantasticum tuum.
"Sinceritas, Innovatio, Rigorousness et Efficientia" possunt esse constans nostrae ordinationis conceptio ad illud diuturnum instituendi cum clientibus pro mutuo reciproco et mutuo lucro.Sina CF4 et CF4 Gas"Pretios crea, servientes Customer!"id ipsum quo sequimur.Sincere speramus omnes clientes diuturnum tempus et mutuam cooperationem cum nobis firmaturos. Si plura de societate nostra accipere vis, Vide nunc nobiscum contactum!

Technical Parameters

Carbon tetrafluoride hydrocarbon cum formula chemica cf4.Respici potest ut hydrocarbon halogenatum, methanum halogenatum, perfluorocarbon, vel sicut compositum inorganicum.Carbon tetrafluoride est gas sine colore et inodoro, in aqua solubilis, in benzene et chloroformi solubilis.Stabilis sub temperatura et pressione normali, ne fortes oxidantes, materiae combustibiles vel flammabiles.Gas non-combustible, pressio interna continentis augebit cum magno calore exposita, periculum est creptionis et explosionis.Est chemica stabilis et non flammabilis.Solum liquidum ammoniacum-sodorum metallum apud locus temperatus operari potest.Carbon tetrafluoride est gas quod effectus CONSERVATORIUM facit.Valde stabilis est, diu manere potest in aere, et est validissima CONSERVATORIUM gas.Carbon tetrafluoride adhibetur in processu plasmatis etingificationis variarum circuiturum integralium.Usurpatur etiam pro laser gas, et in frigidis temperaturas refrigerantibus, menstrua, lubricantibus, insulis, et refrigerantibus pro detectoribus ultrarubrum adhibetur.Maxime usus est plasma etching gas in microelectronics industriae.Est mixtura gasi tetrafluoromethane puritatis summus et tetrafluoromethane gas puritatis summus et oxygenii puritatis summus.Late adhiberi potest in siliconibus, dioxide pii, nitride pii, et vitro phosphosilicate.Cessura materiae tenuium cinematographicarum qualium tungsten et tungsten etiam late adhibetur in superficie purgandarum electronicarum machinarum, productio cellae solaris, technologia laser, frigiditatis temperaturae refrigerationis, inspectionis fatiscentis, et in productione circumscriptionis impressae purgat.Usus est humilis temperatus refrigerans et plasma arida et technologiae technologiae pro circuitibus integratis.Cautiones pro repositione: Copia in loco frigido, ventilato gas cellarium non combustibile.Ab igne et aestu fontes abstinete.Temperatura repono non excederet 30°C.Seorsim a combustibilibus et oxidantibus facile condi debet, ac permixta repositione vitare.Tabularium instructum debet cum ultrices subitis curationis instrumentis.

Applicatio:

Refrigerant:

Tetrafluoromethane interdum adhibetur ut refrigerans temperatus humilis.

Etching:

Adhibetur in sola microfabricatione electronicis vel in compositione cum oxygenio sicut plasma etcantis siliconis, dioxidis pii, et nitridis siliconis.

Normalis sarcina:

Commodum:

Summa pudicitia, facilitas tardus;

ISO libellum opificem;

Fast partus;

④ In-linea analysis ratio qualitatis in omni gradu moderandi;

⑤ Excelsa postulatio et processus anxius ad tractandum cylindrum ante impletionem;